新工具｜卷對平套准納米壓印光刻系統
納米壓印光刻技術（Nano-Imprint Lithography，NIL）是一種微納加工技術，將設計並製作在模板上的微小圖形，通過壓印轉移到塗有高分子材料基板上。壓印解像度由所用印模板圖形結構大小決定，物理上沒有投影光學系統中的衍射極限限制，可複製納米級線寬圖形和結構。
圖：納米壓印模具的製備工藝
· 納米壓印光刻複製1:1，精確拷貝
· 壓印模具加工要求高於光掩模板
因此，在投影光刻技術越來越難以前行的情況下，NIL可能是最值得期待的路線。製備納米壓印模具的光刻解像度，比用於晶片投影光刻的光掩模的光刻解像度高約4倍。
納米壓印光刻的基本工藝流程
不同類型納米壓印模式：
· 平對平（Stamping）
· 卷對平（Roll-to-Plate，R2P）
· 卷對卷（Roll-to-Roll，R2R)
· 軟壓印（Soft Imprinting）
壓印材料分成：
熱塑性、熱固性、光固化樹脂
由於納米壓印時，圖形邊緣粗糙度，優於傳統光刻機的表現，沒有光干涉、也沒有光刻膠蝕刻等問題，使得納米壓印製造的光子元件時，表現更符合設計的預期效能，且一般光子元件製造層數較少，層間覆蓋的問題沒那麼苛刻，且光子器件表面的加工要求是3D形貌，這正是納米壓印光刻的強項之一。
光電子領域是納米壓印光刻的優選應用方向，已成功應用到光場成像、螢幕顯示、DNA測序、AR/VR、傳感、微光學和柔性電子等領域。
針對納米壓印模具的裝調、上膠、多層套准和脫膜等問題。SVG研究人員研製成功卷對平（Roll-to-Plate，R2P）智能套准納米壓印光刻系統FlexAlignerP，成為一種微納結構快速高保真複製手段。
基於發明的聯動輥壓、可編程上膠和智能壓力控制的壓印方法，智能套准納米壓印光刻系統FlexAlignerP，包含：
柔性模具安裝-子系統
聯動輥筒壓印與恆張力控制-子系統
可編程上膠-子系統
多點CCD光學視覺識別與對準-子系統
載物台多軸精密控制系統
UV光固化和智能識別軟件
……
智能套准納米壓印光刻系統FlexAlignerP實現了高保真、低剩餘厚度、可多次套準的、高效的納米壓印方式。
設計用於12吋以下襯底上納米壓印，適合企業的產品研發、工程驗證和批量應用。
設計用於8吋以下襯底上納米壓印，適合與科研教育和研發領域。
SVG 特色性能
SVG 先進功能
恆張力控制的透明模具，提高在硬質工件上的壓印效率。
柔性透明模具可重複使用，一旦受污染，通過收卷方式，自動更換新透明模具，加大提高工作效率。該壓印模式具有批量生產能力，為泛半導體、光波導、微流控、衍射光柵和微光學元件等精確複製提供了先進工具。
可採用不同的硬質模具，在柔性透明薄膜上做多功能壓印。
可在透明薄膜上連續複製微納結構，也可更換硬質模具，將不同微納結構複製在同一柔性透明襯底薄膜（PET/PC/PI）上。該功能為柔性電子材料、超材料、二維材料、微光學功能材料提供了批量化手段。
CCD光學識別套准模式。
CCD光學視覺識別精度0.5μm，套准壓印對準精度<5μm，這種精度適合於通常的光電子器件的對準複製。套准壓印的精度不僅取決於光學識別的精度，也受到平台定位精度、運行環境、模具變形與襯底材料膨脹特性的影響。
可編程上膠，根據模具微結構的分佈確定上膠。
降低UV樹脂壓印後剩餘厚度（取決於樹脂黏度、輥筒硬度和輥筒壓力）。點膠頭設計、上膠方式與微納結構相關。
卷對平智能套准納米壓印系統，在光電子、新型顯示、元宇宙、新穎材料、生物醫藥、泛半導體方面，有望實現更多用途。
在新一輪產業升級中，對新型光刻系統和光刻工藝、微納製造裝備及材料的深度研發一直是尊龙凯时的踐行方向，助力我國光電子、泛半導體和新材料領域的自主創新和產業升級步伐。